就
是
對
待
工
作
的
態
度
，
個產品，
對待每一
做到極致認真
每一個零件
細
致
致
每一組數據
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智能型HMDS真空系統（JS-HMDS90-AI）
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潔凈烘箱，百級無塵烘箱
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氮氣烘箱，精密充氮烘箱
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LCP熱處理烘箱，LCP纖維氮氣烘箱
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熱風循環真空烘箱，高溫熱風真空烤箱
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HMDS預處理系統(JS-HMDS90 )
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智能型無塵無氧烘箱（PI烤箱）
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真空無氧固化爐，高溫無氧烘箱
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精密烤膠臺，高精度烘膠機
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超低溫試驗箱，零下-120度高低溫箱
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PI無氧烘箱工藝流程
來源:
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作者:雋思半導體設備部
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發布時間: 2023-04-06
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PI光刻膠是一種高性能、高精度的光刻膠，被廣泛應用于微電子、光電子、MEMS等領域
PI無氧烘箱工藝的必要性：
PI光刻膠的預烘是將其涂覆在襯底上后，在特定溫度下進行一段時間的烘千，使PI溶液中的溶劑揮發掉，PI形成一定的網狀結構并增強其附著性。
PI無氧烘箱工藝要求（參考）：
在低氧狀態下使用
真空加熱，升溫至1xx℃
再溫至1xx℃(約xh),保溫約 30min;
繼續升溫至x00℃，視涂層厚度不同加熱10-x0min
保溫 約60min；
降溫至100℃以下
PI無氧烘箱性能：
溫度：室溫+50～400℃
氧濃度：≤10ppm
真空度：1Torr
冷卻裝置：輔助降溫
控制方式：可程式運行
