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  • 智能型HMDS真空系統(JS-HMDS90-AI)
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NH3氨氣烘箱 氨氣真空烘烤系統 氨氣圖形反轉爐
    發布時間: 2025-04-24 11:42    

NH3氨氣烘箱 氨氣真空烘烤系統 氨氣圖形反轉爐用途:

   在光刻膠的處理過程中,調整其極性對于實現精確的圖形轉移至關重要。氨氣作為一種有效的極性調節劑,在光刻膠中發揮著關鍵作用。使得光刻膠在半導體、光學器件及生物芯片等制造領域能夠更精準地適應圖形轉移的需求,提升產品的制造質量和精度。氨氣通過其獨特的化學性質,在光刻膠中發揮著調整極性、優化圖形轉移效果的重要作用,是微細制造領域不可或缺的關鍵材料之一。

   氨氣真空烘烤系統廣泛應用于新材料(如超材料、表面工程)、前沿物理研究(如超導、量子)、仿生(功能性表面)、光子(微納光學、光波導、光子晶體)、生物(DNA測試、納流控)、微電子等研究領域,以及3D結構光器件、光子芯片、高功率芯片等加工領域。

NH3氨氣烘箱 氨氣真空烘烤系統 氨氣圖形反轉爐技術性能:

容量:2-12寸晶圓或方片兼容,可定制

溫度范圍: RT-200℃

真空度: ≤100pa

控制儀表: 人機界面+PLC

氣路控制: 多氣路控制

真空泵: 高品質渦旋無油泵

保護裝置: NH3監測保護,超溫保護,漏電保護等

NH3氨氣烘箱 氨氣真空烘烤系統 氨氣圖形反轉爐特點:

具有重復性好

更加穩定

環保,對人體無害的顯著優點

也可用于其它硅烷沉積工藝的處理

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