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圖像翻轉烘箱 光刻圖形反轉設備
    發布時間: 2024-10-09 11:52    

 圖像翻轉烘箱  光刻圖形反轉設備工藝原理:

    光刻圖形反轉是一種特殊的工藝,用于制作?半導體器件。在曝光結束后,光刻膠中的圖像與想要得到的圖像是相反的,即曝光區域在顯影后會形成孔洞而不是島區。這種工藝主要用于制作孔洞結構,通過改變曝光區域和非曝光區域的相對分解率來實現。

圖像翻轉烘箱  光刻圖形反轉設備的應用:

    光刻圖形反轉工藝主要用于剝離過程,特別是在柔性電極、電極的制作以及其他一些MEMS器件工藝中。通過底切側壁形態,可以防止沉積的材料在光刻膠邊緣和側壁上形成連續薄膜,有助于獲得干凈的剝離光刻膠結構。

圖像翻轉烘箱  光刻圖形反轉設備的性能

尺寸(可定制)

內腔尺寸:450寬×450深×450高(mm),外形尺寸:760×750×1500 (mm)

  材質

內箱采用SUS304不銹鋼,外箱采用優質冷軋板靜電噴塑

溫度范圍

RT+50-250℃

溫度分辨率

0.1℃

溫度波動度

≤±1℃

操作模式

人機界面

升溫速率

≤5℃/min

氣體

2路供氣

真空度

0.1~100KPa

電源及總功率 

AC220V±10% / 50HZ       總功率約2.8KW

溫度控制器

觸摸屏微電腦溫控器,可校準溫度,PID 自整定等功能

擱板層數

不銹鋼托盤2層

真空泵

渦旋干泵

腔門密封圈

采用耐高溫硅橡膠密封圈,密封圈采用一體成型無縫加工



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